光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。 [1鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內，大多數金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。無論是對于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、砷化鎵、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學元件材料，還是對于YAG激光采用普通光學玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學元件材料，都不能達到全反射鏡的99%以上要求。不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。光學增透膜沉積在光學元件表面，用以減少表面反射，增加光學系統透射，又稱減反射膜。如東智能光學膜操作

對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術中的分光膜等。光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，涂鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為各種應用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。通州區本地光學膜供應商例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小；

薄膜沉積的傳統方法一直是熱蒸發，或采用電阻加熱蒸發源或采用電子束蒸發源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統蒸發中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能，通常為50eV量級。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統電子束蒸發的薄膜特性。薄膜的光學性質，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴于膜層的顯微結構。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結構。如果蒸發沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會含有微孔。當薄膜暴露于潮濕的空氣時，這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3

填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對于光學薄膜，填充密度通常為0.75～**部分為0.85～0.95，很少達到1.0。小于l的填充密度使所蒸發材料的折射率低于其塊料的折射率。在沉積過程中，每一層的厚度均由光學或石英晶體監控。這兩種技術各有優缺點，這里不作討論。其共同點是材料蒸發時它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變，這種折射率升高伴有相應的光學厚度的增加，反過來造成薄膜光譜特性向長波方向的漂移。為了減小由膜層內微孔的體積和數量所引起的這種光譜漂移，采用高能離子以將其動量傳遞給正在蒸發的材料原子，從而**增加材料原子在基底表面處凝結期間的遷移率。 [3]可以是透明介質，也可以是吸收介質；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。

Dike鋁箔隔熱卷材的太陽輻射吸收系數（法向全輻射放射率）0.07，放射熱量很少。被廣泛應用于屋面與墻體的隔熱保溫。熱能傳播路線（不加隔熱膜）：太陽——紅外線磁波——熱能撞擊瓦片使溫度升高——瓦片成為熱源放射出熱能——熱能撞擊現澆屋面使溫度升高——現澆屋面成為熱源放射出熱能——室內環境溫度持續升高熱能傳播路線（加隔熱膜）：太陽——紅外線磁波——熱能撞擊瓦片使溫度升高——瓦片成為熱源放射出熱能——熱能撞擊鋁箔使表面溫度升高——鋁箔放射率極低，放射少量熱能——室內保持舒適的環境溫度根據一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。如皋國內光學膜服務電話

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偏振分光膜是利用光斜入射時薄膜的偏振效應制成的。偏振分光膜可以分成棱鏡型和平板型兩種。棱鏡型偏振膜利用布儒斯特角入射時界面的偏振效應（見光在分界面上的折射和反射）。當光束總是以布儒斯特角入射到兩種材料界面時，則不論薄膜層數有多少，其水平方向振動的反射光總為零，而垂直分量振動的光則隨薄膜層數的增加而增加，只要層數足夠多，就可以實現透過光束基本是平行方向振動的光，而反射光束基本上是垂直方向振動的光，從而達到偏振分光的目的，由于由空氣入射不可能達到兩種薄膜材料界面上的布儒斯特角，所以薄膜必須鍍在棱鏡上，這時入射介質不是空氣而是玻璃如東智能光學膜操作

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