中清航科注重為客戶提供持續的技術支持，即使流片完成后仍保留 1 年的技術服務期。客戶在芯片測試或應用過程中遇到與流片相關的問題，技術團隊會提供分析支持，如協助排查工藝導致的性能偏差、提供二次流片的優化建議等。去年某 AI 芯片客戶量產時出現良率波動，其技術團隊通過回溯流片數據，3 天內找到光刻參數偏差原因，幫助客戶恢復正常生產。在流片成本透明化方面，中清航科實行 “陽光報價” 機制，所有費用明細清晰可查，包含晶圓代工費、掩膜版費、測試費等，無隱藏收費項目。客戶可通過在線報價系統實時獲取不同工藝節點、不同晶圓廠的參考報價，系統會根據客戶需求自動生成成本構成分析。其定期發布的《流片成本白皮書》，還為行業提供客觀的價格趨勢參考。中清航科專業團隊追責晶圓廠，年挽回損失超$300萬。蘇州TSMC 180nm流片代理

對于需要進行失效分析的流片項目，中清航科建立了專業的失效分析合作網絡。與國內前列失效分析實驗室合作，提供從芯片開封、切片分析到 SEM/EDX 檢測的全流程服務，能在 48 小時內出具初步分析報告，72 小時內提供完整的失效機理分析。其技術團隊會結合流片工藝參數，幫助客戶區分設計缺陷與工藝問題，并提供針對性的改進建議，去年為客戶解決了 60 余起復雜的流片失效問題，平均縮短問題解決周期 80%。中清航科關注新興市場的流片需求，針對東南亞、南亞等地區的半導體產業發展，建立了本地化服務團隊。這些團隊熟悉當地的產業政策、市場需求與供應鏈特點，能為客戶提供符合當地標準的流片方案，如針對印度市場的 BIS 認證流片支持、東南亞汽車市場的本地化測試服務等。通過與當地晶圓廠、封測廠的合作，構建區域化流片供應鏈，將區域內流片交付周期縮短至 10 天以內，助力客戶開拓新興市場。XMC 40nmSOI流片代理廠家中清航科跨境流片代理，處理全部進出口許可文件。

中清航科的流片代理服務實現了全渠道服務支持，客戶可通過電話、郵件、在線客服、移動端 APP 等多種渠道獲取服務。其客戶服務團隊實行 7×24 小時值班制度，確保客戶的問題能得到及時響應，普通問題 1 小時內給出解決方案，復雜問題 4 小時內成立專項小組處理。通過客戶滿意度調查，不斷優化服務流程與服務質量，客戶滿意度持續保持在 95% 以上，重復合作率達到 80%。對于需要進行低軌衛星芯片流片的客戶，中清航科提供抗輻射流片代理服務。其與具備抗輻射工藝能力的晶圓廠合作，熟悉總劑量輻射、單粒子效應等空間環境對芯片的影響，能為客戶提供抗輻射加固設計建議、工藝參數選擇等專業服務。在流片過程中，實施特殊的工藝控制，如增加氧化層厚度、采用特殊的摻雜工藝等，提高芯片的抗輻射能力。已成功代理多個低軌衛星通信芯片的流片項目，產品通過了嚴格的輻射測試，滿足衛星在軌運行 10 年以上的要求。

全球晶圓產能緊張的背景下，其流片周期的穩定性至關重要。中清航科建立了多晶圓廠備份機制，為每個工藝節點匹配 2-3 家備選晶圓廠，當主供廠商出現產能波動時，可在 48 小時內啟動切換流程，確保流片計劃不受影響。去年某車規芯片客戶遭遇主晶圓廠火災事故，中清航科只用 3 天就完成產能轉移，將交付延期控制在 1 周內，較大限度降低客戶損失。流片后的測試與分析是驗證設計有效性的關鍵環節，中清航科配備了完整的芯片測試實驗室，擁有 ATE 測試系統、探針臺等先進設備，可提供 CP（晶圓級測試）與 FT（成品測試）服務。測試數據通過自主開發的分析平臺進行失效模式分類，生成詳細的良率分析報告，幫助客戶精確定位設計缺陷。其與第三方失效分析實驗室的合作網絡，還可提供切片分析、SEM 成像等深度分析服務。中清航科建立晶圓廠突發斷供72小時替代方案庫。

中清航科的流片代理服務注重技術創新，每年投入營收的 15% 用于研發。其研發團隊專注于流片工藝優化、數字化服務平臺開發、新材料流片技術研究等領域，已申請發明專利 80 余項，其中 “一種基于人工智能的流片參數優化方法” 獲得國家發明專利獎。通過持續創新，不斷提升服務質量與技術水平，例如較新研發的流片良率預測模型，預測準確率達到 92%，能幫助客戶提前識別潛在的良率風險。對于需要進行軍民融合流片的客戶，中清航科提供符合標準的流片代理服務。其建立了流片流程，嚴格遵守國家保密規定，與具備生產資質的晶圓廠合作，確保流片過程符合 GJB9001C 質量管理體系要求。在流片過程中，實施更嚴格的質量控制與追溯管理，每道工序都有詳細的記錄與簽字確認，滿足可追溯性要求。已成功代理多個芯片的流片項目，涵蓋雷達、通信、導航等領域，產品通過了嚴格的鑒定。選擇中清航科流片，贈送晶圓探針測試500點。杭州中芯國際 40nm流片代理

中清航科提供3D堆疊流片方案，內存帶寬提升8倍。蘇州TSMC 180nm流片代理

流片后的數據分析與反饋對產品優化至關重要，中清航科為此開發了專業的流片數據分析平臺。該平臺可對接晶圓廠的測試數據系統，自動導入 CP 測試、FT 測試的原始數據，通過數據挖掘算法進行多維度分析，包括良率分布、參數分布、失效模式等，生成直觀的可視化報告。針對低良率項目，技術團隊會進行根因分析，區分設計問題與工藝問題，提供具體的優化建議，如調整光刻參數、優化版圖設計等。平臺還支持多批次數據對比，幫助客戶跟蹤良率變化趨勢，識別持續改進點。某客戶的射頻芯片流片后良率只為 65%，中清航科通過數據分析發現是金屬層刻蝕不均導致，提出優化刻蝕時間與功率的建議，二次流片良率提升至 89%。蘇州TSMC 180nm流片代理