為滿足半導(dǎo)體行業(yè)的快速交付需求，中清航科建立了高效的設(shè)備生產(chǎn)與交付體系。采用柔性化生產(chǎn)模式，標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)切割設(shè)備可實(shí)現(xiàn) 7 天內(nèi)快速發(fā)貨，定制化設(shè)備交付周期控制在 30 天以內(nèi)。同時(shí)提供門到門安裝調(diào)試服務(wù)，配備專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)全程跟進(jìn)，確保設(shè)備快速投產(chǎn)。在晶圓切割的工藝參數(shù)優(yōu)化方面，中清航科引入實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)（DOE）方法。通過多因素正交試驗(yàn)，系統(tǒng)分析激光功率、切割速度、焦點(diǎn)位置等參數(shù)對(duì)切割質(zhì)量的影響，建立參數(shù)優(yōu)化模型，可在 20 組實(shí)驗(yàn)內(nèi)找到比較好工藝組合，較傳統(tǒng)試錯(cuò)法減少 60% 的實(shí)驗(yàn)次數(shù)，加速新工藝開發(fā)進(jìn)程。中清航科推出切割廢料回收服務(wù)，晶圓利用率提升至99.1%。無錫碳化硅晶圓切割刀片

隨著芯片輕薄化趨勢(shì)，中清航科DBG（先切割后研磨）與SDBG（半切割后研磨）設(shè)備采用漸進(jìn)式壓力控制技術(shù)，切割階段只切入晶圓1/3厚度，經(jīng)背面研磨后自動(dòng)分離。該方案將100μm以下晶圓碎片率降至0.01%，已應(yīng)用于5G射頻模塊量產(chǎn)線。冷卻液純度直接影響切割良率。中清航科納米級(jí)過濾系統(tǒng)可去除99.99%的0.1μm顆粒，配合自主研發(fā)的抗靜電添加劑，減少硅屑附著造成的短路風(fēng)險(xiǎn)。智能溫控模塊維持液體粘度穩(wěn)定，延長(zhǎng)刀片壽命200小時(shí)以上呢。舟山碳化硅陶瓷晶圓切割藍(lán)膜第三代半導(dǎo)體切割中清航科提供全套解決方案，良率95%+。

當(dāng)晶圓切割面臨復(fù)雜圖形切割需求時(shí)，中清航科的矢量切割技術(shù)展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。該技術(shù)可精確識(shí)別任意復(fù)雜切割路徑，包括圓弧、曲線及異形圖案，通過分段速度調(diào)節(jié)確保每一段切割的平滑過渡，切割軌跡誤差控制在 2μm 以內(nèi)。目前已成功應(yīng)用于光電子芯片的精密切割，為 AR/VR 設(shè)備中心器件生產(chǎn)提供有力支持。半導(dǎo)體生產(chǎn)車間的設(shè)備協(xié)同運(yùn)作對(duì)通信兼容性要求極高，中清航科的晶圓切割設(shè)備多方面支持 OPC UA 通信協(xié)議，可與主流 MES 系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)交互。通過標(biāo)準(zhǔn)化數(shù)據(jù)接口，將切割進(jìn)度、設(shè)備狀態(tài)、質(zhì)量數(shù)據(jù)等信息實(shí)時(shí)上傳至管理平臺(tái)，助力客戶實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程的數(shù)字化管控與智能決策。

在晶圓切割的質(zhì)量檢測(cè)方面，中清航科引入了三維形貌檢測(cè)技術(shù)。通過高分辨率 confocal 顯微鏡對(duì)切割面進(jìn)行三維掃描，生成精確的表面粗糙度與輪廓數(shù)據(jù)，粗糙度測(cè)量精度可達(dá) 0.1nm，為工藝優(yōu)化提供量化依據(jù)。該檢測(cè)結(jié)果可直接與客戶的質(zhì)量系統(tǒng)對(duì)接，實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的無縫流轉(zhuǎn)。針對(duì)晶圓切割過程中的熱變形問題，中清航科開發(fā)了恒溫控制切割艙。通過高精度溫度傳感器與 PID 溫控系統(tǒng)，將切割艙內(nèi)的溫度波動(dòng)控制在 ±0.1℃以內(nèi)，同時(shí)采用熱誤差補(bǔ)償算法，實(shí)時(shí)修正溫度變化引起的機(jī)械變形，確保在不同環(huán)境溫度下的切割精度穩(wěn)定一致。晶圓切割大數(shù)據(jù)平臺(tái)中清航科開發(fā)，實(shí)時(shí)分析10萬+工藝參數(shù)。

對(duì)于高價(jià)值的晶圓產(chǎn)品，切割過程中的追溯性尤為重要。中清航科的切割設(shè)備內(nèi)置二維碼追溯系統(tǒng)，每片晶圓進(jìn)入設(shè)備后都會(huì)生成單獨(dú)的二維碼標(biāo)識(shí)，全程記錄切割時(shí)間、操作人員、工藝參數(shù)、檢測(cè)結(jié)果等信息，可通過掃碼快速查詢?nèi)鞒虜?shù)據(jù)，為質(zhì)量追溯與問題分析提供完整依據(jù)。在晶圓切割的邊緣處理方面，中清航科突破傳統(tǒng)工藝限制，開發(fā)出激光倒角技術(shù)?？稍谇懈畹耐瑫r(shí)完成晶圓邊緣的圓弧處理，倒角半徑可精確控制在 5-50μm 范圍內(nèi)，有效減少邊緣應(yīng)力集中，提高晶圓的機(jī)械強(qiáng)度。該技術(shù)特別適用于需要多次搬運(yùn)與清洗的晶圓加工流程。中清航科聯(lián)合高校成立切割技術(shù)研究院，突破納米級(jí)切割瓶頸。溫州半導(dǎo)體晶圓切割寬度

采用中清航科激光隱形切割技術(shù)，晶圓分片效率提升40%以上。無錫碳化硅晶圓切割刀片

在半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化替代的浪潮中，中清航科始終堅(jiān)持自主創(chuàng)新，中心技術(shù) 100% 自主可控。其晶圓切割設(shè)備的關(guān)鍵部件如激光發(fā)生器、精密導(dǎo)軌、控制系統(tǒng)等均實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化量產(chǎn)，不僅擺脫對(duì)進(jìn)口部件的依賴，還將設(shè)備交付周期縮短至 8 周以內(nèi)，較進(jìn)口設(shè)備縮短 50%，為客戶搶占市場(chǎng)先機(jī)提供有力支持。展望未來，隨著 3nm 及更先進(jìn)制程的突破，晶圓切割將面臨更小尺寸、更高精度的挑戰(zhàn)。中清航科已啟動(dòng)下一代原子級(jí)精度切割技術(shù)的研發(fā)，計(jì)劃通過量子點(diǎn)標(biāo)記與納米操控技術(shù)，實(shí)現(xiàn) 10nm 以下的切割精度，同時(shí)布局晶圓 - 封裝一體化工藝，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展提供前瞻性的技術(shù)解決方案，與全球客戶共同邁向更微觀的制造領(lǐng)域。無錫碳化硅晶圓切割刀片