EVG510® HE 熱壓印系統

應用：高度靈活的熱壓印系統，用于研發和小批量生產

EVG510® HE 半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有熱壓印腔室，其真空和壓印力可調，可用于熱壓印各種聚合物材料，可進行高深寬比壓印，可用于高質量納米微米圖案的熱轉印工藝。

EVG510® HE 特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化熱壓印工藝

配合EVG專有的對準設備，可用于需要光學對準的壓印

完全由軟件控制的流程執行

主動式水冷系統提供安靜快速均勻的冷卻效果

可選配閉環冷卻水供應 EVG?7200LA是大面積SmartNIL?UV紫外光納米壓印光刻系統。氮化鎵納米壓印廠家

SmartNIL技術簡介SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。襯底納米壓印一級代理EVG?610和EVG?620NT / EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。

EVG®7200LA大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統用于大面積無人能比的共形納米壓印光刻。EVG7200大面積UV納米壓印系統使用EVG專有且經過量證明的SmartNIL技術，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550mmx650mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經濟有效的方法，因為它不受光學系統的限制，并且可以為蕞小的結構提供蕞佳的圖案保真度。SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40nm*的出色保形壓印結果。憑借獨特且經過驗證的設備功能（包括無人能比的易用性）以及高水平的工藝專業知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業需求。

EVGROUP®|產品/納米壓印光刻解決方案納米壓印光刻的介紹：EVGroup是納米壓印光刻（NIL）的市場領仙設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發和現場經驗進行了優化，以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40nm的出色保形壓印結果。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系岱美，探討納米壓印光刻的相關知識。岱美愿意與您共同進步。EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到磚家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現300mm的大批量生產■批量生產低至40nm的結構或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）■結合了預處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術■全自動壓印和受控的低力分離，可蕞大程度地重復使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770：連續重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高效母模制造，直至SmartNIL®的納米結構■不同類型的母版的簡單實現■可變的光刻膠分配模式■分配，壓印和脫模過程中的實時圖像■用于壓印和脫模的原位力控制SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。襯底納米壓印一級代理

EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統。氮化鎵納米壓印廠家

EVG®610紫外線納米壓印光刻系統具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，從碎片到ZUI大150毫米。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間瑾為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。氮化鎵納米壓印廠家