EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能，可在各種應用中實現出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光，對深腔進行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。EVG620NT特征：晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。EVG6200 NT光刻機有哪些應用

EVG®150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項：各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預濕/洗盤去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波附加模塊選項預對準：光學/機械ID讀取器：條形碼，字母數字，數據矩陣系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問，診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR晶片光刻機用于生物芯片IQ Aligner NT 光刻機系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片，支持200mm和300mm尺寸的晶圓。

EVG增強對準：全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時，大間隙，晶圓平面或紅外對準，在可編程位置自動定位。確保*好圖形對比度，并對明場和暗場照明進行程序控制。先進的模式識別算法，自動原點功能，合成對準鍵模式導入和培訓可確保高度可重復的對準結果。曝光光學：提供不同配置的曝光光學系統(tǒng)，旨在實現任何應用的*大靈活性。汞燈曝光光學系統(tǒng)針對150，200和300 mm基片進行了優(yōu)化，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求，例如i-，g-和h-線濾光片，甚至還有深紫外線。

EVG也提供量產型掩模對準系統(tǒng)。對于在微米范圍內的光刻圖形，掩模對準器是蕞具成本效益的技術，與其他解決方案相比，每層可節(jié)省30％以上的成本，這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術標準相結合，并由卓悅的全球服務基礎設施提供支持。蕞重要的是，大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產型的光刻機系統(tǒng)，得到了他們的無數好評。可以使用用于壓印光刻的工具，例如紫外光納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷。

HERCULES光刻軌道系統(tǒng)所述HERCULES®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持。HERCULES基于模塊化平臺，將EVG建立的光學掩模對準技術與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚，彎曲度高，矩形，小直徑的晶圓，甚至可以處理設備托盤。精密的頂側和底側對準以及亞微米至超厚（蕞大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應用。出色的對準臺設計可實現高產量的高精度對準和曝光結果。EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度，尺寸，形狀的晶圓和基片。HVM光刻機可以用于研發(fā)嗎

EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術標準相結合，為全球服務基礎設施提供支持。EVG6200 NT光刻機有哪些應用

是一家專業(yè)致力于半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀的研發(fā)和制造企業(yè)，所有產品均采用更先進的技術和工藝制造。涵蓋了該國際標準在結構、資源、技術、體系等方面的全部要求。其發(fā)布與實施將進一步促進我國標準物質研制(生產)機構管理體系的規(guī)范化運行，確保標準物質的研發(fā)、生產和服務質量。半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀屬于儀器儀表等。其中，包括半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀包括等。我國在這一領域規(guī)模已居全球前列，但在整體上還是有自主創(chuàng)新能力薄弱、主要技術與關鍵零部件對外依存度高、服務型制造發(fā)展滯后等問題。其次，我國的新型工業(yè)化進程，帶動了各個工業(yè)領域對自動化的需求，從而也帶來了儀器儀表產業(yè)的繁榮。我國對于各大行業(yè)落實節(jié)能減排指標、關停落后產能等一系列強制性措施都在一定程度上擴大了儀器儀表行業(yè)的市場規(guī)模。智能儀表帶有微型處理系統(tǒng)，或可接入微型計算機智能化儀器。它通過電子電路來轉換測量數據，并對數據進行存儲運算邏輯判斷，通過全自動化的操作過程得到準確無誤的測量，因其強大的功能被應用于各個行業(yè)。目前，智能儀器儀表的更新需求、新增需求和智能化比率在不斷提升。EVG6200 NT光刻機有哪些應用

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