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上海噴涂車間廢氣處理設備生產廠家設備介紹

1、光催化是利用TiO2作為催化劑的光催化過程，反應條件溫和，光解迅速，產物為CO2和H2O或其它，而且適用范圍廣，包括烴、醇、醛、酮、氨等有機物，都能通過TiO2光催化清除。

2、其機理主要是光催化劑二氧化鈦吸收光子，與表面的水反應產生羥基自由基(·OH)和活性氧物質（·O，H2O2），其中羥基自由基(·OH)是光催化反應的一種主要的活性物質，對光催化氧化起決定作用。

3、羥基自由基具有120kJ/mol的反應能，高于有機物中的各類化學鍵能，如：C-C(83kJ/mol)，C-H(99 kJ/mol)，C-N(73kJ/mol)，C-O (84kJ/mol)，H-O (111kJ/mol)，N-H(93 kJ/mol)，因而能迅速有效地分解揮發性有機物和構成細菌的有機物，再加上其它活性氧物質(·O，H2O2)的協同作用，其殺菌效果更為迅速。

上海噴涂車間廢氣處理設備生產廠家設備原理

1、其機理為： Fe(OH)2++ hv→Fe2++2·OH 由于上述反應存在，使得H2O2的分解速率遠大于Fe2+催化H2O2的分解速率。 

2、當用光照半導體材料，如果光子的能量高于半導體的禁帶寬度，則半導體的價帶電子從價帶躍遷到導帶，產生光致電子和空穴（如半導體TiO2的禁帶寬度為3.2eV）。當光子波長小于385nm時，電子就發生躍遷，產生光致電子和空穴。光致電子空穴具有很強的氧化性，可奪取半導體顆粒表面吸附的有機物或溶劑中的電子，使原本不吸收光而無法被光子直接氧化的物質，通過光催化劑被活化氧化。

3、光致電子具有很強的還原性，使得半導體表面的電子受體被還原。但是遷移到表面的光致電子和空穴又存在符合的可能，降低了光催化反應的效率。為了提高光催化效率吧，需要適當的俘獲劑，降低電子和空穴復合的可能性，這是近年來光催化研究的重點。光催化氧化還原機理可以分為幾個階段：光催化劑在光照射下產生電子空穴對；表面羥基或水吸附后形成表面活性中心；表面活性中心吸附水中的有機物；羥基自由基形成，有機物被氧化；氧化產物分離。